艾博纳台式磁控溅射镀膜系统ABN-nanoPVD-S10A，是艾博纳微纳米科技有限公司基于物理气相沉积（PVD）原理自主研发的高精度薄膜制备设备。作为公司真空与镀膜技术产品线的核心产品之一，其通过在真空腔体中引入惰性气体（通常为氩气），在电场与磁场的共同作用下形成高密度等离子体。等离子体中的离子加速轰击靶材，使靶材原子溅射并沉积在基片表面形成均匀致密的薄膜。磁场结构有效约束电子运动路径，提高电离效率，使系统在较低气压下仍能稳定运行。该设备结构紧凑、操作便捷，完美适配科研实验室与小规模工艺开发使用场景，充分体现了艾博纳以科研需求为导向的产品设计理念。
一、功能特点
紧凑型台式结构设计：占地面积小，适合实验室环境部署，契合科研场景空间需求；
高稳定磁控溅射结构：等离子体分布均匀，成膜速率与质量稳定，保障实验数据可靠性；
多靶位可选配置：支持单靶或双靶切换，满足多材料沉积需求，适配多样化科研课题；
多种电源模式兼容：支持直流（DC）与射频（RF）溅射工艺，拓展工艺应用范围；
精准气路与真空控制：配置质量流量控制器（MFC），工艺重复性好，助力实验成果复现；
样品台功能集成：支持旋转、加热与偏压，提升膜层均匀性，优化薄膜制备效果；
安全联锁与保护机制：具备水冷、真空、电源多重安全保护，保障实验操作安全；
模块化拓展能力：可扩展反应溅射、膜厚监控等功能模块，适配科研过程中的功能升级需求。
二、应用场景与领域
半导体与微电子研究：用于金属电极、阻挡层及互连层薄膜制备，助力微电子器件研发；
光学与光电子领域：适用于反射膜、透明导电膜及功能光学膜层制备，契合公司光学元件产品线协同发展；
新材料与纳米技术：支持二维材料、电极薄膜及功能薄膜研究，匹配公司纳米尺度材料应用研究方向；
传感器与能源器件：用于气敏、电化学及储能器件薄膜制备，赋能新能源与传感领域科研创新；
表面工程与功能涂层：适合耐磨膜、硬质膜及装饰膜工艺开发，服务于表面工程领域研究。
三、技术优势
成膜质量高：膜层致密、附着力强，为高质量科研成果奠定基础；
膜厚均匀性好：配合样品旋转设计，均匀性优异，保障薄膜性能稳定性；
工艺兼容性强：支持金属、氧化物、氮化物及复合膜系，适配多学科研究需求；
低温沉积能力：适合温敏基片材料，拓展了可加工基片的范围；
工艺重复性好：自动化控制确保实验一致性，减少实验误差；
科研友好设计：参数调节灵活，适合工艺探索与验证，助力科研人员高效开展实验。
四、技术参数
靶材类型：单靶配置，常见靶材：金属（如 Au、Cr、Ti）、氧化物（如 ITO、SiO₂）、氮化物；靶材尺寸：25.4 mm 或 50.8 mm；靶材功率：100 W 至 3 kW（取决于靶材类型和沉积要求）；真空腔体尺寸：直径 180 mm × 高 215 mm（适合桌面放置）；真空系统：分子泵（如 CY-600，600 L/s）+ 背压泵（如旋片泵，1.1 L/s）；极限真空度：1.0 × 10⁻⁵ Pa；基片台尺寸：直径 100 mm；基片加热：温度范围：室温至 500 ℃，温控精度 ±1 ℃；基片旋转：1–20 rpm 可调；气体系统：两路质量流量计（MFC），常用气体：氩气（Ar），可选氧气（O₂）或氮气（N₂）；系统：水冷系统，流量 10 L/min，配套循环水冷机；电源配置：交流电源：AC 220V，50/60 Hz，最大功率 2 kW（包含真空泵和设备）；外形尺寸：500 mm × 350 mm × 400 mm（紧凑型，适合实验室台面）
重量：约 30 kg
五、结语
艾博纳台式磁控溅射镀膜系统ABN-nanoPVD-S10A通过精密机电设计、智能控制算法和模块化架构，实现了实验室级精度与工业级稳定性的融合。其在二维材料封装、柔性电子、超硬涂层等前沿领域的成功应用，印证了该技术平台的综合价值，也与公司聚焦纳米尺度材料应用研究的核心方向高度契合。未来，随着人工智能工艺优化算法的引入（契合公司新一代人工智能驱动科学设备的研发方向），系统性能将进一步提升，为新材料研发提供更强大的工具支撑，助力全球科研工作者取得更多突破性成果。
艾博纳微纳米科技有限公司是一家位于苏州市高新区（Medpark）和江苏省淮安市的高科技企业，成立于2022年8月。公司专注于高端光学科学仪器和医学成像设备的研发、制造与销售。
其产品涵盖显微成像解决方案、真空与镀膜技术以及光学元件，产品范围从基础光学显微镜到先进的纳米级三维成像显微镜。
公司还致力于新一代人工智能驱动的科学设备研发，聚焦于纳米尺度二维材料电子器件（如石墨烯芯片）的应用研究，并结合诺贝尔奖获奖技术进行创新探索。
淮安：江苏省淮安市清江浦区清浦工业园枚皋路7号
苏州：江苏省苏州市相城区北河泾街道相融路588号中荷科技创新港，D栋4层
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