一、产品概述
艾博纳磁控溅射镀膜仪（ABN-500-Y2）是一款高性能的薄膜沉积设备，采用磁控溅射技术，能够实现高沉积速率，广泛应用于电子、光学和材料科学领域的薄膜制备。此设备适用于大规模生产，并且具有较好的膜层均匀性和附着力，特别适合要求较高膜层质量的应用场合。
二、功能特点
1. 高效稳定的磁控设计：采用平衡或非平衡磁控结构，确保等离子体均匀分布，溅射速率稳定可控；
2. 多靶位配置：支持单靶、双靶及多靶结构，可实现多层膜、合金膜及复合膜的连续沉积；
3. 精确的真空与气体控制：采用机械泵+分子泵复合抽气系统，结合质量流量控制器（MFC），保证真空洁净度及气氛稳定性；
4. 多类型电源支持：可配置直流（DC）、射频（RF）、脉冲直流（PDC）电源，实现导电、非导电及反应溅射工艺；
5. 样品台功能多样：支持加热、旋转、偏压及冷却功能，样品温度控制范围可达室温至500℃；
6. 工艺参数智能控制：内置PLC与触控人机界面，实现真空、气体流量、电源功率、时间及膜厚的全自动控制；
7. 高安全性设计：具备水冷保护、真空互锁、过流过压保护及应急停机系统，保障设备运行安全可靠；
8. 可定制扩展性：支持反应溅射模块、离子辅助模块、负载锁及在线膜厚监控系统，实现高端科研级拓展。
三、应用场景与领域
1. 半导体与微电子制造用于沉积导电层、阻挡层、粘附层及金属互连膜，如Ti/Au、Cr/Au、Al、Cu等薄膜结构；
2. 光电与显示技术可用于制备透明导电膜（ITO、IZO）、反射膜、遮光膜、滤光膜及OLED电极结构；
3. 光学元件与精密薄膜应用于反射膜、增透膜、保护膜及滤光片的多层结构制备，满足光学系统精密要求；
4. 新材料与纳米技术研究适用于二维材料、电极薄膜、超导薄膜、功能氧化物及量子材料制备研究；
5. 能源与传感器领域用于太阳能电池电极层、气体传感器、电极及储能器件的薄膜制备；
6. 表面工程与机械制造广泛应用于刀具、模具、零部件的耐磨膜、硬质膜及装饰膜沉积。
四、技术优势
1. 膜层致密且附着力强：离子能量可控，结合力优于传统蒸发工艺；
2. 膜层均匀性高：配备样品旋转与行星转机构，膜厚均匀性可优于±3%；
3. 多工艺兼容性强：支持金属、氧化物、氮化物及合金膜沉积；
4. 成膜温度低：适用于温敏性基片，如聚合物或玻璃；
5. 工艺可重复性好：自动化控制系统与工艺数据库确保稳定输出；
6. 可实现反应溅射与离子辅助沉积，提升膜层结构与性能。
五、典型膜系与应用案例
膜系 | 类型 | 应用领域 | 主要性能指标 | 备注 |
Ti/Au | 金属叠层膜 | 微电子器件电极 | 导电性优、附着力强 | 适合MEMS电极制备 |
ITO | 透明导电膜 | 光电显示 | 透过率>85%、电阻率<1×10⁻³Ω·cm | 需控氧气比例 |
Cr/Al/SiO₂ | 多层膜 | 反射镜片 | 反射率>90%、抗氧化性强 | 用于光学器件 |
TiN | 氮化物膜 | 硬质涂层 | 硬度高、耐磨、耐腐蚀 | 刀具与模具涂层 |
Al₂O₃ | 绝缘膜 | 电子器件 | 高介电强度、表面光滑 | 适合微纳器件封装 |
注：以上参数仅为参考值，实际工艺需结合靶材纯度、功率、压强与气氛条件进行优化。
六、技术参数
1、工作压力范围：5×10⁻ 5Pa至5×10⁻ ³Pa
2、气体配置：2组，6英寸，气角度可调节
3、工作电流范围：0.1A至100A，射频功率稳定性≤5%
4、加热温度：室温至300℃，并具备向下兼容的能力
工作原理图
设备外观图
