热蒸发镀膜仪

一、产品概述

         艾博纳热蒸发镀膜仪（ABN-500-YI）是一款高精度的实验室热蒸发镀膜设备，适用于实验室及小规模生产。该设备操作简便，专为高质量薄膜的制备而设计，能提供高均匀性和较高的纯度镀膜效果。由于采用了先进的热蒸发技术，能够在高真空环境下，控制镀膜的质量和厚度，适用于金属、半导体及其他材料的镀膜需求。

二、功能特点

1. 高真空蒸发环境：采用机械泵+分子泵或扩散泵组合，实现10⁻⁴–10⁻⁶ Pa级真空；

2. 多蒸发源配置：支持电阻加热舟、钼舟、钨舟及坩埚结构；
3. 多工位样品台：支持样品旋转、倾斜及多片基片同时镀膜；
4. 蒸发速率可控：通过电流、电压精确调节蒸发功率；
5. 膜厚监控：可选配石英晶体膜厚监控系统；
6. 操作简洁：触控界面或按键控制，便于科研与教学使用；
7. 高安全性：具备水冷、过流、真空联锁保护。

三、应用场景与领域

1. 微电子与MEMS器件：金属电极、导线及粘附层沉积；

2. 光学薄膜：反射膜、半反半透膜、保护膜制备；
3. 二维材料与新材料研究：电极直写与界面工程；
4. 教学与科研实验：高校与科研院所薄膜基础实验平台；
5. 传感器与器件封装：功能薄膜与电极制备。

四、技术参数

1、工作压力范围：4×10⁻ 5Pa

2、真空泵启动时间：30分钟，达到5×10⁻ ⁴Pa的真空环境

3、薄膜厚度均匀性：薄膜厚度的均匀性为±3%，最大偏差为±5%

4、膜层厚度控制精度：5%

5、镀膜速度：每小时12小时≤5Pa

6、操作时间：可调时间为0-30分钟

五、典型型号与应用案例

艾博纳热蒸发镀膜仪操作软件界面截图

设备外观图