艾博纳 MA 系列半导体/FPD 检查显微镜是艾博纳微纳米科技为集成电路制造、显示面板生产与精密制造质检推出的高性能显微观察与分析平台。系统基于高分辨光学设计、精密机械结构与稳定成像系统，专注于芯片封装、线宽/线距、缺陷判读、焊点检测、OLED/PDP/IPS 面板像素结构检查等关键工艺环节的视觉观察与分析。该系列适用于半导体晶圆检查、封装基板检查、FPD 面板微结构观察、PCB/PCB 层间观察以及其他需高对比、高分辨率显微检查的工业现场。
一、核心优势
高分辨率光学成像
使用高透光、高解析力光学组件，适配微结构观察与细节判读。
工业级稳定平台
精密导轨搭配钢性机架，实现长时间、低漂移观察。
多种照明组合
兼容透射、反射、同轴、暗场等多种工业照明，提高缺陷对比度。
可扩展数码成像方案
配合工业相机与图像分析软件，实现图像采集、测量、记录与报告生成。
符合制造现场使用需求
设计考虑操作便捷、日常维护低、环境适应性强。
二、技术参数（典型配置）
1) 光学系统
光学系统：工业级无限远或远心光学方案（按配置）；光学结构：正置 / 侧视可选（按应用）；成像模式：目视 / 数码成像
2) 物镜与倍率：物镜倍率（可选）：1× / 2× / 5× / 10× / 20× / 50× / 100×（按需要选配）；工作距离：长工作距离物镜，可适应大厚度工件；总放大倍率：20×–1000×（视配置与相机而定）
3) 载物平台
类型：工业精密机械平台（手动 / 电动可选）
行程（典型）：X 轴：≥ 200 / 300 / 500 mm；Y 轴：≥ 100 / 200 / 300 mm，重复定位精度：≤ 2 µm（高精度编码器反馈）
4) 调焦系统
高精度同轴粗 / 微调焦手轮；微调最小刻度：≤ 1 µm；防撞限位机构
5) 照明系统
透射照明：高亮度 LED 底部光源；反射照明：高亮度工业环形 LED；同轴照明：可选（提升平面反光件对比）；暗场照明：可选（增强缺陷对比）；光源亮度：连续可调
6) 数码成像系统（选配）
工业相机类型：USB3.0 / GigE / CameraLink
分辨率：≥ 5 MP / 10 MP / 20 MP 可选
软件功能：实时显示 /捕获、基本测量、标注、缩放与拼接、批注与报告导出
7) 辅助功能与附件（可选）侧视镜头 / 倾角镜头；镜筒投影装置；气吹除尘装置；尺寸校准标尺片；环境光隔离罩（减少干扰）
8) 电气与环境条件
电源：AC 100–240 V，50/60 Hz；工作温度：15–35 ℃；相对湿度：20%–80%（无冷凝）
三、典型应用领域
半导体制造过程检查：晶圆裂纹、划痕、颗粒与光刻缺陷观察；封装基板焊点/引线检查。
FPD (Flat Panel Display) 结构检查：TFT/像素结构、薄膜层边缘、印刷缺陷、点间距检查。
PCB/PCB 质量检测：焊盘/过孔观察、线路宽度/线距、阻焊缺陷判读。
微纳制造产品观察：MEMS 结构、微通道、微孔阵列等细节检查。
精密机械零部件检测：小孔、刻线、倒角、表面缺陷判读等。
仰角可调观察筒
