超高分辨率场发射扫描电镜

一、产品概述

超高分辨率场发射扫描电子显微镜（Field Emission Scanning Electron Microscope，FE-SEM）是一种基于场发射电子枪的高端微纳结构表征设备。该设备通过高亮度、低能散的场发射电子源，结合先进的电子光学系统和高稳定度真空环境，实现对样品表面形貌、微观结构及成分分布的纳米级甚至亚纳米级成像。FE-SEM广泛应用于材料科学、半导体、生命科学及先进制造等领域，是现代科研与高端工业分析中不可或缺的核心仪器。

技术参数：

ABN-MAGNA 是一款功能极其强大的分析仪器 ，适用于纳米材料的形貌表征以及微观分析。 MAGNA 配置 Triglav™ 型 SEM 镜筒 ，具有超高分辨率、镜筒内探测器系统具有电子信号过滤能力 ，可以获得更好的图像对度和表面灵敏度 ，非常适用于不导电样品的成像、如陶瓷、无涂层生物样品 ，以及半导体光敏样品等。

MAGNA 配备肖特基场发射电子枪 ，能够提供高达 400 nA 的束流 ，结合 Triglav™

SEM 镜筒出色的纳米尺度分析性能和稳定性 ，为微分析和长耗时样品的分析应用提供了最佳条件。

强大的 Tritens™ 三物镜系统：

MAGNA 配备专利的 Triglav™ 型 SEM 镜筒 ，具有 Trilens™ 三物镜系统 ，适用领域更加多样化。

TriSE™ 和 TriBE™ 探测器系统：

MAGNA 配备最新一代 TriSE™ 和 TriBE™ 探测器系统 ：包含三个二次电子探测器和三个背散射电子探测器 ，可以根据角度和能量的差异选择性地收集信号。

SE 分辨率 ：0.6 nm @ 15 kV

BSE 分辨率： 1.6 nm @ 15 kV

探测器系统 ，可根据角度和能量的差异选择性地收集信号

电子束流高达 400 nA ，电压也可以快速改变 ，并保证在所有的分析应用下都能获得良好的信号

具有优异的低束流能量下检测能力 ，是表征表面无缝隙的生物样品的理想工具

1. 混有金纳米颗粒的黑硅，In-Beam SE 探测器成像。

2. TiO₂ 纳米管，in-column SE 探测器成像。

3. 碳纳米管（约 100 nm），分布有 1–7 nm 的金属纳米颗粒，STEM 成像后根据 STEM 不同类型信号进行上色的伪彩图。

4. 脑组织的突触，in-column BSE 探测器成像。

二、功能特点

1. 超高空间分辨率成像：在低加速电压条件下仍可实现纳米及亚纳米级分辨能力。

2. 宽加速电压范围：支持低电压表面成像与高电压内部结构观察。
3. 多信号探测能力：支持二次电子、背散射电子等多种成像模式。
4. 稳定的电子束系统：场发射电子枪具备高亮度、高稳定性和长寿命特性。
5. 高真空与可扩展腔体设计：满足多样化样品测试需求。
6. 智能化操作界面：支持自动对焦、自动像散校正与图像拼接。

三、应用场景与领域

1. 材料科学：纳米材料、二维材料、复合材料及断口形貌分析。

2. 半导体与集成电路：晶圆缺陷检测、线宽测量、失效分析。
3. 生命科学：细胞、组织及生物支架的表面超微结构观察。
4. 能源与化工：催化剂微结构、电池电极材料形貌分析。
5. 工业制造：精密加工表面质量评估、微纳结构检测。

四、技术优势

1. 场发射电子源优势：能量分布窄，信噪比高，显著提升成像清晰度。

2. 低电压高分辨能力：减少样品损伤，特别适合非导电或敏感样品。
3. 电子光学系统高度优化：有效降低像差，提高成像稳定性。
4. 系统稳定性强：适合长时间、高重复性的科研与检测任务。
5. 良好的系统扩展性：可集成能谱、样品台及多种原位附件。

五、典型型号与应用案例

工作原理图

数据图

外观图