UM 无掩模版紫外光刻机

艾博纳 ABNER-UM系列无掩模光刻机是一款基于数字微镜器件（DMD）的紫外直写光刻系统，面向微纳器件研发、二维材料器件制备、MEMS 工艺验证及高校科研教学等应用场景。系统通过计算机直接加载版图数据，将设计图形实时投射至光刻胶表面，实现无需实体掩模、快速迭代、高精度曝光的光刻加工方式，大幅降低工艺成本并缩短研发周期。该设备兼顾高分辨率成像与系统稳定性，采用模块化光路设计与高精度运动平台，支持多种紫外波段与样品尺寸，特别适用于小批量、多方案、频繁修改版图的科研与中试需求。

一、产品核心优势

无掩模直写

无需制作光掩模，版图即改即用，显著降低研发成本与时间

高分辨率紫外成像
采用高数值孔径投影光学系统，实现亚微米级线宽加工能力

高速 DMD 动态曝光
基于数字微镜阵列的灰度/二值曝光控制，支持复杂图形与渐变结构

高精度运动与对准
精密电动载物台，支持多区域拼接曝光与重复定位

开放式工艺兼容性
兼容主流正胶、负胶，适配多种基底材料与器件结构

科研友好型软件
支持 GDSII / DXF / BMP 等版图格式，操作直观，适合实验室环境

二、典型应用领域

二维材料器件（Graphene、MoS₂、WSe₂ 等）

微纳电子与光电子器件

MEMS / 微结构原型验证

微流控芯片

新材料与新工艺教学实验

掩模前期工艺评估与快速验证

三、技术参数（ABNER-UV 标准配置）

1.光刻系统

2. DMD 与成像系统

3. 运动与样品平台

4. 对准与拼接

5. 软件与控制系统

6. 系统与环境要求

工作原理