PL桌面式高精密3D光刻设备

一、产品概述

艾博纳(ABN)PL系列是面向微纳制造的桌面式 3D 光刻系统，采用光刻级运动控制与光学成像技术，实现 1–10μm 级光学精度成型，无需掩膜版或模具即可直写复杂三维微纳结构、高深宽比结构及复合材料微结。三款型号分别对应 2μm、5μm、10μm 的基准光学精度，覆盖从精细原型到中批量微结构制造的不同需求，兼具成型精度高、制造周期短、材料适配广、成本可控等特点

二、设备参数规格

三、功能特点

1. 高精度立体拼接成型：支持跨视场无缝拼接，可扩展成型尺寸并保持整体精度。

2. 全画幅地图导航与自动聚焦：全区域扫描聚焦，确保大尺寸面内一致精度。

3. 实时光学监控：曝光过程实时成像，在线检测层间对准与结构质量。

4. 纳米级运动平台：XYθ 与 Z 轴闭环控制，定位精度达纳米级，保障层厚均匀与特征精度。

5. 多材料兼容与驳接打印：适配光敏树脂、生物材料、陶瓷浆料等，支持在已有结构上对准套印 / 驳接打印。

6. 自动除泡与料池管理：最小料池 15ml，自动除泡减少气泡对成型的影响。

7. 灵活分层与曝光策略：分层厚度 1–20μm 可调，支持多波长曝光（Premium/DLS 型号可选）。

四、应用场景与领域

精密医疗：微针阵列、生物支架、植入物原型、药物递送微结构

微流控芯片：微通道、混合器、液滴生成器、器官芯片模具

微机械与 MEMS：微齿轮、微传感器、微执行器、精密连接器原型

力学超材料：点阵结构、负泊松比结构、声子晶体、力学超表面

消费电子：微光学元件、精密模具、微型连接器、传感器部件

材料科学：复合材料微结构、陶瓷生坯、功能梯度材料原型

五、技术优势

1. 精度领先：光学精度低至 1μm，特征尺寸一致性高，侧壁粗糙度低。

2. 无掩膜直写：无需掩膜 / 模具，设计迭代快，小批量成本优势显著。

3. 高深宽比能力：可成型高宽比＞20:1 的微结构，适配微通道、微柱阵列等场景。

4. 拼接与套印：全画幅导航 + 对准套印，支持大尺寸拼接与异质结构集成。

5. 材料适配广：覆盖光敏树脂、生物材料（如 GelMA）、陶瓷浆料，适配医疗与工业需求。

6. 成本与周期优化：桌面式设计、低耗材、短制造周期，适合研发到中试阶段。

   
   

产品成像图