B 系列无掩模光刻机

一、产品介绍

艾博纳 B 系列无掩模光刻机是一款面向科研机构与先进工艺研发场景的高精度直写式光刻设备。系统采用数字化空间光调制技术，实现图形的无掩模直接曝光，有效避免传统掩模光刻中掩模制作周期长、成本高、迭代效率低等问题，特别适用于微纳结构快速原型验证、多版本工艺开发及小批量定制化制程。B 系列以“高稳定性 + 高可扩展性”为核心设计理念，在保证曝光精度与重复一致性的前提下，兼顾系统模块化与升级灵活性。设备可广泛应用于微纳器件、MEMS、二维材料、光子器件、微流控芯片及新型功能材料等前沿研究领域，是科研与中试阶段的重要工艺装备。

二、技术资讯与核心优势

1. 无掩模数字直写技术

系统基于数字光调制阵列实现图形投影曝光，通过软件直接加载设计版图（GDS/DXF/BMP 等），完成图形到基底的快速映射：无需实体掩模，显著降低工艺成本；图形可实时修改，适合多轮工艺迭代；支持复杂、非周期、渐变及异形结构设计

2. 高精度光学曝光系统

B 系列采用优化设计的紫外光学系统，确保曝光光斑均匀性与边缘清晰度：

紫外波段曝光，适配主流光刻胶体系

高对比度成像，提升线边质量

光路稳定，适合长时间连续运行

3. 高稳定运动与对准平台

设备集成高精度电动位移与自动对准模块，实现多区域拼接与重复曝光：高重复定位精度，满足微纳尺度加工需求；支持自动拼接曝光，扩展有效加工面积；可选自动/半自动对准模式，适配不同实验流程4. 软件与系统集成能力

B 系列配备自主控制软件，实现版图处理、曝光参数设置与运动控制的高度集成：支持多格式版图导入与图形缩放；曝光剂量、灰度、步进参数可编程；操作逻辑清晰，适合科研用户快速上手

5. 模块化与可扩展设计

系统预留多种升级接口，满足用户后续工艺拓展需求：可拓展自动对准、双波段曝光等功能；可适配多尺寸样品与特殊基底；兼容实验室洁净环境与开放式平台布局

三、典型应用领域

微纳结构与功能器件原型验证；MEMS 器件与多层结构工艺开发；二维材料器件制备与电极图形化；微流控芯片与生物芯片加工；光子晶体、衍射光学元件研究

四、技术参数