艾博纳无掩模光刻机：微纳制造的“快速通道”

近日，国内微纳米制造装备领域的创新先锋艾博纳微纳米科技宣布，其自主研发的新一代DMD数字无掩模光刻机实现核心技术突破：分辨率达50nm级、加工效率提升30%、支持6英寸基板批量加工，关键指标跃居国际先进水平。这一成果不仅填补了国内中高端无掩模光刻机的技术空白，更为我国MEMS传感器、生物芯片、柔性电子等高端制造领域提供了自主化装备支撑，打破了国外企业在该领域的长期垄断。


 一、无掩模光刻机：定制化微纳制造的“破局者”


传统光刻技术依赖预先制作的掩膜版，成本高（单张掩膜版价格超万元）、周期长（定制需1-2周），难以满足小批量、定制化或研发阶段的微纳加工需求。而无掩模光刻机通过数字图案直接投影（如DMD数字微镜阵列），无需物理掩膜，可实时修改图案，实现“一键换版”，加工周期缩短至数小时，成本降低60%以上，成为研发创新与小批量生产的“利器”。尤其在MEMS传感器、量子器件、生物芯片等领域，产品迭代快、个性化需求强，无掩模技术的灵活性优势凸显。例如，某高校研发团队利用无掩模光刻机，仅用3天就完成了5种不同结构的MEMS原型验证，而传统掩膜技术需耗时1个月以上。



 二、艾博纳技术突破：硬核指标领跑国内

艾博纳此次发布的ABN-UV500系列无掩模光刻机，在三大核心维度实现突破：

 1. 分辨率跃升：采用深紫外光源（365nm）结合高精度光学系统，分辨率从此前的100nm提升至50nm，可满足多数高端微纳器件的加工要求；

2. 效率翻倍：优化DMD阵列驱动算法与运动控制精度，加工速度达20mm²/min，较上一代产品提升30%，支持6英寸基板连续加工；

 3. 智能适配：自主开发的“微纳图案设计软件平台”，兼容主流CAD格式，可自动优化曝光参数，降低用户操作门槛。 据悉，该产品已通过某头部MEMS企业的批量验证：用于生产压力传感器芯片时，良率稳定在92%以上，较进口设备成本降低40%，交付周期缩短50%。

 三、深耕自主研发：艾博纳的“技术基因”

 成立于2015年的艾博纳微纳米科技，核心团队来自中科院微电子所、清华大学等顶尖科研机构，专注于微纳制造装备的自主研发。公司每年研发投入占比超25%，累计申请专利60余项，其中发明专利32项，形成了从光学设计、运动控制到软件算法的全链条技术壁垒。 “我们的目标是让国内企业用得起、用得好自主化微纳装备。”艾博纳CEO张博士表示，此前公司的入门级无掩模光刻机已服务于全国50余所高校和20多家企业，此次新一代产品的推出，将进一步覆盖工业级应用场景。

四、赋能产业链升级：破解“卡脖子”困局


 当前，全球高端微纳制造装备市场被荷兰ASML、日本尼康等企业垄断，国内企业面临“买不到、用不起”的困境。艾博纳ABN-UV500系列的问世，标志着国内无掩模光刻机技术正式进入国际第一梯队，可替代部分进口设备，为国内产业链提供“自主可控”的解决方案。 “这一突破对我国微纳制造领域意义重大。”中国微米纳米技术学会副理事长王教授评价，“无掩模光刻机是研发创新的‘基础设施’，艾博纳的技术进步将加速国内MEMS、生物芯片等新兴产业的迭代速度，助力破解高端装备‘卡脖子’难题。”


 五、未来展望：

拓展应用边界，引领行业方向 艾博纳计划在未来两年内，推出分辨率达30nm的下一代产品，重点拓展柔性电子、量子点显示、基因测序芯片等新兴领域。同时，公司将扩大产能至每年50台，服务更多科研机构与制造企业。 “无掩模技术的终极目标是实现‘微纳制造的普惠化’。”“我们希望通过持续创新，让每一个有微纳加工需求的团队，都能用上高效、低成本的自主化装备，推动中国高端制造走向全球前沿。” 艾博纳的技术突破，不仅是国内无掩模光刻机领域的里程碑事件，更彰显了中国企业在高端装备自主研发上的坚定决心。随着技术的进一步成熟与普及，无掩模光刻将成为推动微纳制造产业创新的核心动力，助力我国在全球高端制造竞争中占据一席之地。 

艾博纳微纳米科技有限公司是一家位于苏州市高新区（Medpark）和江苏省淮安市的高科技企业，成立于2022年8月。公司专注于高端光学科学仪器和医学成像设备的研发、制造与销售。

其产品涵盖显微成像解决方案、真空与镀膜技术以及光学元件，产品范围从基础光学显微镜到先进的纳米级三维成像显微镜。

公司还致力于新一代人工智能驱动的科学设备研发，聚焦于纳米尺度二维材料电子器件（如石墨烯芯片）的应用研究，并结合诺贝尔奖获奖技术进行创新探索。

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