近日，专注于微纳米技术装备研发的艾博纳微纳米科技（以下简称“艾博纳”）正式推出新一代台式磁控溅射镀膜系统。该系统以“小型化、高性能、易操作”为核心优势，为高校科研实验室及企业研发部门提供了高效灵活的薄膜制备解决方案，有望打破传统大型镀膜设备的应用局限，加速微纳米薄膜技术在多领域的创新落地。
技术革新：小型化机身承载高性能核心
传统磁控溅射设备往往体积庞大、操作复杂，且成本高昂，难以满足实验室对“小而精”装备的需求。ABN-Sputter-100通过五大技术突破，实现了小型化与高性能的平衡：
1. 极致紧凑设计，适配实验室空间
整机占地面积仅0.8㎡，重量约150kg，可轻松放置于常规实验室工作台。相比传统大型设备（占地≥5㎡），空间利用率提升6倍以上，解决了科研团队“设备无处放”的痛点。
2. 超高真空与均匀性，保障薄膜质量
采用分子泵组+机械泵的组合真空系统，极限真空度可达5×10⁻⁷ Torr；优化的磁控靶结构与旋转样品台设计，使薄膜均匀性控制在±3%以内，满足高精度科研需求。
3. 多模式兼容，覆盖多元材料体系
支持直流（DC）、射频（RF）、脉冲直流（Pulsed DC）三种溅射模式，兼容金属（Cu、Al）、陶瓷（TiO₂、SiO₂）、合金（NiCr）、化合物（ZnO、AZO）等多种靶材，可实现单靶溅射、共溅射及多层膜沉积，适配新能源、光电、生物医学等领域的材料研发。
4. 智能控制系统，降低操作门槛
搭载自主研发的可视化操作软件，实时监控真空度、溅射功率、气体流量等12项核心参数，支持程序自动化运行（如预设沉积时间、功率曲线）。即使是非专业操作人员，也能在30分钟内完成薄膜制备流程。
5. 模块化架构，灵活升级拓展
靶位、样品台、真空系统等模块可自由组合，后续可加装离子源（增强薄膜附着力）、原位退火（提升结晶度）、等离子体处理（表面改性）等功能，延长设备生命周期。
应用场景：覆盖科研与产业全链条
通用性使其成为多领域研发的“刚需装备”：
高校科研：加速基础研究突破
材料科学：制备拓扑绝缘体薄膜、二维材料异质结，探索新型量子效应；
物理领域：研究薄膜的电学（电阻率）、光学（透过率）特性，为器件设计提供数据支撑；
化学领域：开发催化薄膜（如Pt基催化剂），优化反应活性与稳定性。
企业研发：推动成果产业化
半导体：制备芯片金属互连层（Cu、W），降低接触电阻；
光电行业：开发柔性透明导电薄膜（AZO/GZO），替代传统ITO材料；
新能源：优化锂电池正极薄膜（LiCoO₂）的离子传导性能；
生物医学：制备钛合金植入物抗菌涂层（Ag掺杂TiO₂），抑菌率达99%。
据艾博纳技术总监透露，该系统已在清华大学、上海交通大学等10余家高校完成试用，某团队利用其制备的钙钛矿太阳能电池电子传输层，转换效率较传统方法提升8%。
行业价值：打破垄断，降低创新门槛
长期以来，国内高端镀膜设备市场被国外品牌垄断，单台大型设备价格超300万元，维护成本每年超20万元，限制了中小科研团队的创新活力。该产品定价仅为进口设备的1/3~1/5，且提供本地化售后服务（响应时间≤48小时），极大降低了薄膜制备的门槛。 艾博纳总经理表示：“我们的目标是打造‘实验室里的薄膜工厂’，让每一个科研团队都能用上专业级装备。不仅填补了国内台式高性能镀膜设备的空白，更将加速科研成果从实验室走向生产线。”
未来展望：持续迭代，构建微纳米生态
艾博纳计划推出，新增等离子体增强化学气相沉积（PECVD）模块，实现“溅射+沉积”一体化；同时，与国内高校共建“微纳米薄膜联合实验室”，针对细分领域需求提供定制化解决方案。 作为国内微纳米装备领域的创新者，艾博纳以“让微纳米技术更易获取”为使命，通过技术突破推动行业变革。我国台式磁控溅射设备已进入“高性能自主化”时代，将为半导体、新能源等关键领域的技术突破注入新动力。
艾博纳微纳米科技有限公司是一家位于苏州市高新区（Medpark）和江苏省淮安市的高科技企业，成立于2022年8月。公司专注于高端光学科学仪器和医学成像设备的研发、制造与销售。
其产品涵盖显微成像解决方案、真空与镀膜技术以及光学元件，产品范围从基础光学显微镜到先进的纳米级三维成像显微镜。
公司还致力于新一代人工智能驱动的科学设备研发，聚焦于纳米尺度二维材料电子器件（如石墨烯芯片）的应用研究，并结合诺贝尔奖获奖技术进行创新探索。
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