近日，艾博纳正式发布新一代无掩模光刻机产品。这款集成多项自主核心技术的设备，以150nm加工精度、4倍于传统掩模光刻机的生产效率，以及对柔性基板的出色适配能力，成为微纳米制造领域柔性化转型的关键利器，为行业解锁定制化、小批量生产的新密码。
传统掩模技术的痛点与突破方向
在传统微纳米制造中，掩模光刻机是主流设备，但存在明显瓶颈：掩模的设计、制作和更换流程繁琐，成本高昂（单块掩模费用可达数万元），且制作周期长达数天甚至数周，难以满足中小批量、定制化生产需求。更关键的是，对于柔性基板（如聚酰亚胺薄膜、PET等），传统掩模的硬接触式加工易导致基板变形、图案错位，严重限制了柔性电子、可穿戴设备等新兴领域的发展。
艾博纳新一代无掩模光刻机的核心突破，在于摒弃了物理掩模依赖，采用数字直接成像（DDI）技术——通过高精度光学系统将数字图案直接投射到涂有光刻胶的基板表面，实现“设计即生产”的快速转换。这一技术不仅省去了掩模制作环节，还能在几分钟内完成图案切换，生产效率较传统设备提升4倍以上。
150nm精度+柔性适配：平衡性能与场景需求
该设备的150nm加工精度，精准覆盖了中端微纳米制造的核心需求。对于柔性电子（如柔性显示屏电极、可穿戴传感器）、生物医疗（微流控芯片、生物传感器阵列）、物联网（微型传感器结构）等领域，150nm精度已能满足产品性能要求，同时避免了高端光刻机的高成本门槛。
针对柔性基板的特性，设备采用非接触式加工方式，避免硬掩模对柔性材料的损伤；平台支持多种柔性基材（厚度从几十微米到几毫米的塑料薄膜、柔性玻璃等）的固定与加工，可适应不同弯曲半径的产品制造。例如，可穿戴设备的柔性传感器需要在弯曲状态下保持图案完整性，该设备能通过动态调整光学参数，确保图案精度不受基板变形影响。
应用场景：从实验室到产业化的柔性化落地
新一代无掩模光刻机的推出，将加速多个领域的柔性化制造进程：
- 生物医疗领域：微流控芯片是疾病检测、药物筛选的核心组件，其内部微通道、微腔室需高精度图案。该设备可快速制作不同设计的芯片原型，将研发周期从数周缩短至数天，降低科研机构和中小企业的研发成本。
- 柔性电子领域：柔性显示屏的电极阵列、可穿戴设备的压力传感器，需要在柔性基板上实现精细图案加工。设备的高效切换能力，可支持小批量多品种的柔性产品生产，满足市场对个性化智能穿戴设备的需求。
- 物联网领域：小型化传感器的微型结构（如微天线、微电路）需要高集成度加工，设备的150nm精度和快速生产能力，可助力物联网终端设备的轻量化、低功耗升级。
行业意义：推动微纳米制造柔性化转型
艾博纳技术负责人表示：“新一代无掩模光刻机的核心目标，是打破传统掩模技术的限制，让微纳米制造变得更灵活、更普惠。我们希望通过技术创新，让更多企业和科研机构能够轻松开展微纳米级加工，推动柔性电子、智能医疗等新兴产业的发展。”
行业观察人士认为，无掩模光刻技术是微纳米制造的重要发展趋势。艾博纳此次产品填补了中端无掩模光刻机市场的空白，其平衡精度与效率的设计，将加速柔性化制造从实验室走向产业化应用。未来，随着设备的普及，微纳米制造领域有望迎来“小批量定制化”的新变革，为相关产业注入创新动力。
未来展望：持续深耕柔性化技术
艾博纳表示，将继续投入研发，进一步提升设备精度（目标向100nm以下迈进）和效率，并针对不同行业需求优化解决方案。例如，为生物医疗领域开发专用的生物兼容基板加工模块，为柔性电子领域提供更高分辨率的图案投射技术。
新一代无掩模光刻机的问世，不仅是艾博纳技术实力的体现，更标志着微纳米制造柔性化时代的到来。它将帮助行业突破传统生产模式的束缚，解锁更多创新应用的可能性，推动微纳米制造向更灵活、更高效、更普惠的方向发展。
艾博纳微纳米科技有限公司是一家位于苏州市高新区（Medpark）和江苏省淮安市的高科技企业，成立于2022年8月。公司专注于高端光学科学仪器和医学成像设备的研发、制造与销售。
其产品涵盖显微成像解决方案、真空与镀膜技术以及光学元件，产品范围从基础光学显微镜到先进的纳米级三维成像显微镜。
公司还致力于新一代人工智能驱动的科学设备研发，聚焦于纳米尺度二维材料电子器件（如石墨烯芯片）的应用研究，并结合诺贝尔奖获奖技术进行创新探索。
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